PVD 退鍍處理方法 ~ 符合歐盟REACH規範 ~

 

取代噴砂處理 ! 化學退鍍對於大批量工件較為迅速、有效 !

 

 

 

PVD是指在真空環境下，將欲鍍物質以氣體或等離子型態沉積在工件上。由於實用性廣，鍍膜有良好的耐磨與耐化性，也可應用於相當多領域，包含光學、電子、半導體等。而部分工件因重工需求，或周邊零件去將鍍層退除以重新使用，即會需要退鍍的工序。

 

三種處理比較

 

更換新零件

 

噴砂處理

 

化學退鍍

 

火烤處理

 

處理方式	更換新零件	噴砂處理	化學退鍍
對該零件影響	全新零件	零件有變形、耗損、破壞的可能	無特別影響
對生產環境影響	無影響	殘留的粉末對於真空鍍膜設備、無塵室產生污染	處理後用水清洗並乾燥，無環境汙染可能性。
成本	高	低	中
人力	低	高	中

 

 

光學鉬電極板去鍍膜

 

工件: 鉬電極板

目的: 因多次鍍膜程序，鍍膜累積在表面，希望退鍍後可以重複使用，降低成本。

條件: Controx E 230 100%原液，加溫至90^oC，反應15分鐘。

結果: 退鍍後，經簡單去離子水沖洗，可出現鉬板金屬原色。

 

退鍍前

 

 

退鍍後

 

 

真空電鍍不鏽鋼件退鍍

 

工件: 不鏽鋼件

目的: 處理重工件，若可完整退鍍，即可重新鍍膜。

條件: Controx E 230 100%原液，加溫70^oC，反應30分鐘。

結果: 退鍍後，使用去離子水做簡單清洗，可看到不鏽鋼金屬原色，後續可再重工。

 

退鍍前

 

 

退鍍後